國標編號22011，CAS號7440-37-1，分子式Ar，分子量39.95，無色無臭的惰性氣體；蒸汽壓202.64kPa(-179℃)；熔點-189.2℃；沸點-185.7℃；溶解性：微溶于水；密度：相對密度(水=1)1.40(-186℃)；相對密度(空氣=1)1.38；穩定性：穩定；危險標記5(不燃氣體)；

主要用途

用于燈泡充氣和對不銹鋼、鎂、鋁等的電弧焊接，即“氬弧焊”。

氬氣的應用領域

　　不銹鋼焊接保護氣體、鋁合金焊接保護氣體、銅合金的焊接保護氣體、高純氬氣廣泛用于ICP光譜儀、高純氬氣廣泛用于節能燈、白熾燈、日光燈的填充氣體、高純氬氣用于ArF準分子激光氣體、超純氬氣用于電子行業制造。

氬氣的特殊用途

　　用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣，為了提高硅晶體的質量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。通過對本裝置的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時，水分也小于1ppm時，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就提高了單晶的使用壽命并能達到要求，贏得客戶的滿意和市場的需求。由于一般液氬汽化后未經過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時氣體供應商提供的氬氣超過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質量，所以往往給生產產品質量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質量如何，只要經過純化裝置的處理后，進入拉晶爐的氬氣，純度始終是恒定的。一般O2＜0.2ppm，水分＜1ppm。

　　大氣壓等離子滲氮因其工業化前景獲得格外關注，但研究者多關注于工藝參數對金屬氮化物薄膜性能的影響，對等離子體改性過程中光譜輻射特性的研究較少。同時為獲得穩定的N2等離子體放電，通常在反應器中添加一定量的氬氣。